Cat-CVD研究会
2026年6月18日（木）、19日（金）
研究会案内
実行委員長より
2026年 3月 23日
Cat-CVDは、従来のシリコン系にとどまらず、有機系や、ダイヤモンドに代表されるカーボン系まで、多岐に渡る材料の形成に用いられています。反応ガスに水素を用いた場合は、従来の酸化雰囲気ではなく還元下で行えることが特徴です。また、薄膜堆積のみならず、接触分解により生成したラジカルを用いた表面の改質、ドーピング、有機薄膜の分解なども行うことができるため、現在注目されている半導体分野だけでなく幅広い分野への応用が期待されています。
Cat-CVD研究会は、Cat-CVD技術を用いた薄膜やデバイス作製を含め、Cat-CVD技術の基礎から応用まで、その最新の研究成果報告と議論を行う場として、2004年から毎年開催されてきました。
第23回となる今回は、2026年6月18日（木）、19日（金）に 旧大連航路上屋（北九州市）
で開催致します。今回の研究での活発なご議論を通して、Cat-CVD技術の新たな展開につながることを期待しています。多くの皆様からのご投稿、ご参加をお待ちいたしております。
第23回Cat-CVD研究会 実行委員長 片宗 優貴
招待講演
招待講演① 中野 正浩 （金沢大学）
「有機太陽電池の用途開拓と社会実装に向けた研究開発」
招待講演② 栗原 香 （Deevec）
「HFCVD装置で作製したホウ素ドープダイヤモンド電極の電気化学センサ応用」
招待講演③ 市川 公善 （金沢大学）
「HFCVD法を用いたダイヤモンドホモエピタキシーにおける成長モードと金属取り込みの制御」
テーマ・内容
以下のCat-CVD技術について、基礎から応用まで幅広く議論します。
(1) ガスの分解過程、気相反応、触媒体材料
(2) Cat-CVD、Hot-Wire装置開発
(3) 堆積膜の基礎物性および評価
(4) ラジカル処理
(5) デバイス応用
(6) 新分野・新展開 など
日時場所
開催日時
2026年6月18日（木）、19日（金）
開催場所
アクセス
宿泊情報（会場周辺）
