Cat-CVD研究会

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研究会案内

実行委員長より

　2025年　4月　8日

Cat-CVDは、従来のシリコン系にとどまらず、有機系や、ダイヤモンドに代表されるカーボン系まで、多岐に渡る材料の形成に用いられています。反応ガスに水素を用いた場合は、従来の酸化雰囲気ではなく還元下で行えることが特徴です。また、薄膜堆積のみならず、接触分解により生成したラジカルを用いた表面の改質、ドーピング、有機薄膜の分解なども行うことができるため、現在注目されている半導体分野だけでなく幅広い分野への応用が期待されています。
Cat-CVD研究会は、Cat-CVD技術を用いた薄膜やデバイス作製を含め、Cat-CVD技術の基礎から応用まで、その最新の研究成果報告と議論を行う場として、2004年から毎年開催されてきました。第22回となる今回は、2025年6月20日（金）にじゅうろくプラザ（岐阜市）で開催致します。今回の研究での活発なご議論を通して、Cat-CVD技術の新たな展開につながることを期待しています。多くの皆様からのご投稿、ご参加をお待ちいたしております。 　　

第22回Cat-CVD研究会　実行委員長　　伊藤　貴司

テーマ・内容

以下のCat-CVD技術について、基礎から応用まで幅広く議論します。

　(1)　ガスの分解過程、気相反応、触媒体材料
　(2)　Cat-CVD、Hot-Wire装置開発
　(3)　堆積膜の基礎物性および評価
　(4)　ラジカル処理
　(5)　デバイス応用
　(6)　新分野・新展開　　など

日時場所

開催日時

2025年6月20日（金）

開催場所

　じゅうろくプラザ

アクセス

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